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NMC 508系列 ICP刻蝕機是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機，具有高精度、高選擇性和高效率等特點。該設備廣泛應用于半導體制造、微電子制造、光電子制造等領域，特別是在集成電路、微機電系統（MEMS）、光電子器件等制造過程中發揮著重要作用。

NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。

HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺.可提供優良成熟的 MES 系統解決方案.優異的工藝技術支持。

Scaler HK430 熱原子層沉積系統，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,腔室結構設計，具備良好的防酸腐蝕能力。

EPEE系列 等離子化學氣相沉積系統 單片和多片式架構，滿足量產和研發客戶需求高效遠程等離子體清洗系統，優異的顆粒控制.滿足量產和研發客戶需求.

eVictor系列 8英寸通用物理氣相沉積系統，加熱基座設計，具備良好的溫度均勻性，高溫厚鋁工藝連續作業無累溫。