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臥式 LPCVD 氣相沉積系統

簡要描述:HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統,半導體客戶端機臺裝機量大,可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺.可提供優良成熟的 MES 系統解決方案.優異的工藝技術支持。

  • 產品型號:HORIC L200 系列
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-06-05
  • 訪  問  量: 536

詳細介紹

1. 產品概述

HORIC L200 系列 臥式 LPCVD  氣相沉積系統,半導體客戶端機臺裝機量大,可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺可提供優良成熟的 MES 系統解決方案.優異的工藝技術支持。

2. 設備用途/原理

HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 系統半導體客戶端機臺裝機量大可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺高可靠性、穩定性 Higher reliability and stability安全性能高:設備及所使用的元件符合國標和國際標準可提供優良成熟的 MES 系統解決方案優異的工藝技術支持

3. 設備特點

晶圓尺寸 4、6、8 英寸適用材料硅、碳化硅、硅基氮化鎵適用工藝  氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃適用域  科研、化合物半導體


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