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ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機，優良的等離子體發生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
更新時間：2024-09-05
型號：ELEDE® 380系列
廠商性質：經銷商
瀏覽量：581
Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統。
更新時間：2024-09-05型號：Orion Proxima廠商性質：經銷商瀏覽量：403
Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統，磁控濺射源和腔室結構的設計有效提高靶材利用率。
更新時間：2024-09-05型號：Polaris系列廠商性質：經銷商瀏覽量：488
Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力。
更新時間：2024-09-05型號：Polaris系列廠商性質：經銷商瀏覽量：391
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統，優良的磁控濺射系統，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
更新時間：2024-09-05型號：eVictor Al PVD廠商性質：經銷商瀏覽量：607
GDE C200系列 高密度 刻蝕機，等離子體源和頻率設計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
更新時間：2024-09-05型號：GDE C200系列廠商性質：經銷商瀏覽量：926
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