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詳細介紹
1. 產品概述
Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統
2. 設備用途/原理
Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力，獨立工藝腔室，多可支持 6 個工藝模塊，優異的溫度，顆粒控制能力，配置靈活、大產能、低運營成本。
3. 設備特點
晶圓尺寸 6、8 英寸，適用材料 銀、鎢化鈦、金、鉑、鈦、氮化鈦、鋁、鉻等，適用工藝 倒裝工藝、金屬電等，適用域 新興應用、科研、化合物半導體。物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術， 物理氣相沉積是主要的表面處理技術之一。
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