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適用于光電應用的 Lumina AS/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積 數據存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積 （IBD） 系統大幅提高 80Gb/in2 傳感器的產量，并滿足未來 TFMH 設備制造的需求。

光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統可以應對這一挑戰。自 1990 年代以來，Veeco 已成功服務于光掩模市場，多年的學習造就了當今先進的系統。IBD-LDD 系統是當今 EUV 掩模坯料上的鉬 （Mo） 和硅 （Si） 多層沉積和釕 （Ru） 封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。

EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺，因此它可以配備用于特定應用的工具，也可以成為適合您實驗室中各種用戶的多功能多源沉積主力。

EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發鍍膜設備，專為薄膜制備與研究設計。其核心組件包括真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統、氣路系統，以及先進的PLC+觸摸屏自動控制系統。該設備采用一體化設計，將主機與控制單元緊密結合，不僅操作簡便，而且結構緊湊，占地面積小，非常適合實驗室環境使用。

Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應更多的工藝增強功能。您的研究目標、生產需求和/或應用最終目標將告知如何裝備您的 Amod PVD 平臺。