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離子束沉積設備

簡要描述:光掩模制造需要高水平的顆粒控制,同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統可以應對這一挑戰。自 1990 年代以來,Veeco 已成功服務于光掩模市場,多年的學習造就了當今先進的系統。IBD-LDD 系統是當今 EUV 掩模坯料上的鉬 (Mo) 和硅 (Si) 多層沉積和釕 (Ru) 封端層沉積的理想選擇,以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。

  • 產品型號:NEXUS IBD-LDD
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-06
  • 訪  問  量: 343

詳細介紹

1.產品概述:

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發的離子束沉積設備,VEECCO憑借25年來在離子束產品域建立導地位,實現當無缺陷的EUV掩模空白

2.產品工藝:

光掩模制造需要高水平的顆粒控制,同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統可以應對這一挑戰。自1990年代以來,Veeco已成功服務于光掩模市場,多年的學習造就了當先進的系統。IBD-LDD系統是當EUV掩模坯料上的鉬(Mo)和硅(Si)多層沉積和釕(Ru)封端層沉積的理想選擇,以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。

3.產品優勢:

經過生產驗證的平臺

低的缺陷密度

優異的均勻性和可重復性

高反射率

在同一腔室中沉積多種材料

可以集成到其他過程模塊中,集成到集群工具中


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