PEALD 實現優良薄膜均勻性 < 1 %

SENTECH SILAYO 等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 系統設計用于在大型 3D 物體和小基材批次上進行保形和均勻光學鍍膜。SENTECH專有的平面三重螺旋天線（PTSA）為均勻的光學鍍膜提供均勻的等離子體。

直徑達 330 mm、高度達 100 mm 的樣品

SENTECH SILAYO PEALD系統能夠均勻包被直徑達330 mm、垂直尺寸達100 mm的樣品。

使用射頻偏置進行應力控制

可選的射頻偏置襯底電極允許修改層屬性（例如應力和折射率）

SENTECH SILAYO PEALD系統設計用于在大型和3D形狀的基材上沉積材料，特別適用于對層性能要求高的光學鍍膜，例如厚度和成分控制的高精度，光滑的表面和尖銳的界面，應力控制，特別是高厚度的多層堆疊，3D形狀上的高均勻性和保形性，以及降低沉積溫度以實現低損傷加工。

該系統可以選擇配備SENTECH AL實時監測儀的專有技術，用于原位監測。

SENTECH SILAYO由優良的硬件和SENTECH SIA軟件控制，具有客戶端-服務器架構。一個經過充分驗證的、可靠的可編程邏輯控制器（PLC）用于所有組件的實時控制。