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當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  1 光刻設備  >  ACS300 Gen3涂膠與顯影機

涂膠與顯影機

簡要描述:ACS300 Gen3作為模塊化系統,是為滿足量產環境而專門設計的。它提供了復雜的涂膠、顯影和烘烤功能,可輕松地適應各種工藝。其的工藝控制,有效地支持廣泛的使用領域。結合這一優點,再加上有8個旋涂器模塊,該系統仍然是市面上占地面積最小的系統;這些品質都有利于減小購置成本,使得該設備對于任何具有挑戰性的先進封裝應用(如圓片級芯片封裝、扇出圓片級封裝、銅柱倒裝芯片封裝和3D封裝)

  • 產品型號:ACS300 Gen3
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-06-05
  • 訪  問  量: 489

詳細介紹

一個工具適用于所有先進的包裝應用

通過在一個系統中提供多種工藝技術,如光阻劑、聚酰亞胺和PBO涂層,ACS300 Gen3提供了高效率。它還為每個模塊提供了多達五種抗蝕劑或四種顯影劑的能力,以實現最佳的工藝靈活性。此外,通用的熱板設計消除了對不同抗蝕劑或PI類型的特定熱板的需要。ACS300 Gen3允許同時處理200和300毫米的晶圓,而不需要進行機械轉換。

一致的過程監控導致高產量

ACS300 Gen3可以實現高效的模塊堆疊,從而節省了潔凈室中昂貴的空間。多達12個模塊可以方便地在三層模塊系統中相互排列,而該工具的多種節省化學品的功能實現了進一步的節約。無論是SUSS MicroTec公司專有的GYRSET技術、新穎的分配技術還是化學品再循環系統,該工具都能經濟地使用化學品,并符合的可持續發展標準。

在吞吐量方面表現出色

當使用可選的第二個機器人系統時,ACS300 Gen3在三步流程中達到了高達240 wph的吞吐率。一個先進的過程控制系統優化了處理時間:調度算法可以有選擇地交換,以確保瓶頸步驟的時間段得到充分的利用。此外,諸如在高溫下的顯影劑和流動模式的特點也減少了加工時間。

一致的過程監控導致高產量

使ACS300 Gen3脫穎而出的是其高度的過程控制。它可以連續記錄所有相關參數的過程數據,如溫度、流量、壓力、體積、清洗率等。數據記錄允許精確調整過程參數、可重復的結果和快速識別潛在的薄弱點。過程變得更加穩定和可重復,產量也可以顯著提高。

亮點

占地面積小,高效的化學品處理,靈活的工藝,配置高,吞吐量的能力,穩定的工藝結果


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