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電子束蒸發(fā)鍍膜設備CMS系列極其強大的優(yōu)良研究工具 設計用于適應特定的薄膜應用，如 GMR、CMS、半導體、納米級器件、光子學和光伏 系統設計可以配置為真正的超高真空性能 經過現場測試和驗證的設計

Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設備專為磁控濺射沉積應用而設計。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設計、具有高級編程、負載鎖定功能的行業(yè)*軟件控制系統以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新設計提供的一些優(yōu)勢。®

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統，可實現 8 英寸晶圓轉移、多達 8 個濺射陰極和 eKLipse 高級控制軟件。

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺的下一代薄膜沉積系統。PVD 75 在全球擁有 400 多臺設備，是一款久經考驗、堅固耐用且用途廣泛的設計。PRO Line PVD 75 建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統、自動

Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統為各種薄膜沉積應用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進的工藝能力、均勻性和多種沉積模式