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Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當(dāng)顆粒物是一個主要問題時，水平配置優(yōu)先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂層的雙軸旋轉(zhuǎn)。通過每次運行的沉積面積來衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過 2000 平方英寸，并且還提供更大的定制系統(tǒng)。

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)，專為入門級到中級用戶而設(shè)計。該ALD150LE™配置為純熱原子層沉積，工藝室設(shè)計促進了均勻的母離子分散和輸送。加熱和溫度控制進一步增強了系統(tǒng)性能?？傮w而言，該ALD150LE™在緊湊的設(shè)計中提供了的靈活性和性能，而不會犧牲可維護性。

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統(tǒng)，專為高級研發(fā) （R&D） 應(yīng)用而設(shè)計。創(chuàng)新的ALD150LX設(shè)計功能，如我們的前驅(qū)體聚焦技術(shù)™，以及我們超高純度 （UHP） 工藝能力等進步技術(shù)，提供了靈活性和性能。

概述 針對有機材料沉積進行了優(yōu)化 多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量 主體與摻雜劑比 1000：1 多達 4 個熱蒸發(fā)源 基板快門 自動基板、掩膜存儲和更換 高溫計端口 手套箱接口設(shè)計，帶滑動前門和滑動后門 KJLC eKLipse™ 控制軟件 速率控制分辨率 0.05Å/s 基于配方的基于 PC 的系統(tǒng)控制 低溫泵高真空泵 2位閘閥

Kurt J. Lesker Company 的有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺是一種成熟、堅固和多功能的設(shè)計。SPECTROS建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上，改進了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。腔室設(shè)計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能。

Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺在全球擁有100多臺設(shè)備，是一種成熟、堅固和多功能的設(shè)計。Mini SPECTROS建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上，改進了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。技術(shù)的腔室設(shè)計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能，這些