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多路溫度記錄儀是一種用于同時(shí)監(jiān)測(cè)和記錄多個(gè)不同位置或區(qū)域溫度的設(shè)備。這類設(shè)備通常在需要對(duì)多點(diǎn)溫度進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控的場(chǎng)合中應(yīng)用，如食品儲(chǔ)藏、醫(yī)藥冷鏈、化工過(guò)程控制、環(huán)境監(jiān)測(cè)以及實(shí)驗(yàn)室研究中。多路溫度記錄儀通過(guò)內(nèi)置或外接的溫度傳感器來(lái)檢測(cè)溫度。這些傳感器可以是熱電偶、熱敏電阻(PT100/PT1000)或其他類型的溫度感應(yīng)元件。它們將測(cè)量到的溫度變化轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，然后由記錄儀內(nèi)部的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)對(duì)這些信號(hào)進(jìn)行處理和轉(zhuǎn)換，最終以數(shù)字形式記錄并顯示溫度數(shù)據(jù)。通常具備數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能，能夠自動(dòng)記...

脈沖激光沉積鍍膜機(jī)PLD是一種物理氣相沉積技術(shù)，用于制備各種類型的薄膜和多層膜結(jié)構(gòu)。PLD技術(shù)以其能夠保留靶材的化學(xué)計(jì)量比、生長(zhǎng)高質(zhì)量薄膜的能力而受到青睞，在許多研究領(lǐng)域和工業(yè)應(yīng)用中都有廣泛使用，如高溫超導(dǎo)材料、鐵電材料、多鐵材料、納米材料等。主要由激光器、真空腔體、靶材和襯底加熱器組成。在操作過(guò)程中，高能量的脈沖激光束聚焦到旋轉(zhuǎn)的靶材上，將靶材表面的物質(zhì)燒蝕并產(chǎn)生等離子體。這些等離子體膨脹并在真空中傳輸，最終沉積在對(duì)面的襯底上形成薄膜。脈沖激光沉積鍍膜機(jī)PLD的主要特點(diǎn)：1...

半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一種用于制備半導(dǎo)體材料的設(shè)備，主要用于將晶圓表面進(jìn)行平整化處理，以達(dá)到提高芯片質(zhì)量和增加電路集成度的目的。原理是利用機(jī)械力和化學(xué)反應(yīng)的綜合作用，對(duì)晶圓表面進(jìn)行研磨和拋光，以去除表面缺陷和提高表面光潔度。基本原理是通過(guò)旋轉(zhuǎn)的研磨盤(pán)和拋光布，對(duì)晶圓表面不斷打磨和拋光，使其表面逐漸變得平整、光滑。半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)的特點(diǎn)：1.高精度：具有較高的研磨和拋光精度，能夠達(dá)到亞微米級(jí)別的表面光潔度。2.高效性：可以在較短的時(shí)間內(nèi)完成對(duì)晶圓的研磨和拋光工作，提高了生產(chǎn)效率。3...

納米壓印系統(tǒng)是一種用于納米級(jí)圖案轉(zhuǎn)移和制備的關(guān)鍵設(shè)備。通過(guò)利用熱壓或光固化等方法，將具有納米尺度結(jié)構(gòu)的模具上的圖案轉(zhuǎn)移到基底材料上，實(shí)現(xiàn)高分辨率、高精度的圖案復(fù)制和制備。納米壓印系統(tǒng)的原理：1.熱壓方式：將預(yù)熱的模具與基底材料緊密接觸，并施加一定的壓力，使得模具上的納米圖案轉(zhuǎn)移到基底材料上。在高溫下，材料的粘彈性使得圖案得以完整地傳遞到基底上。2.光固化方式：模具上的圖案被涂覆了光敏樹(shù)脂的基底材料覆蓋，然后通過(guò)紫外線等光源照射，使光敏樹(shù)脂固化。隨后，將模具與基底材料分離，即可...

半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一種用于半導(dǎo)體材料表面處理的設(shè)備，主要用于去除雜質(zhì)、平整表面和提高光潔度。它在半導(dǎo)體制造過(guò)程中起到關(guān)鍵作用，對(duì)芯片的質(zhì)量和性能具有重要影響。工作原理基于磨粒和拋光液的作用。該機(jī)器通常由研磨盤(pán)、拋光盤(pán)、液壓系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。在工作時(shí)，半導(dǎo)體晶圓（wafer）被放置在研磨盤(pán)上，并通過(guò)液壓系統(tǒng)施加壓力。同時(shí)，研磨盤(pán)和拋光盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，將磨粒和拋光液帶到晶圓表面，實(shí)現(xiàn)研磨和拋光的目的。具體而言，研磨盤(pán)上鋪有磨粒，如氧化鋁或金剛砂，用于去除晶圓表面的雜質(zhì)、缺陷和不平整部...