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當前位置:首頁  >  產品中心  >  其他前道工藝設備  >  6 清洗設備  >  GNP CLEANER-412RCMP后清洗機

CMP后清洗機

簡要描述:GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

  • 產品型號:GNP CLEANER-412R
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 400

詳細介紹

1. 基本參數

適用晶圓尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")

配置:輸入噴淋清洗,兩個雙面刷清洗和旋轉漂洗干燥(可選:分離QDR)

清洗機尺寸:1610w 1260d 1640hmm電刷尺寸:070(外徑)031(內徑)170()毫米

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4ohDIW

刷頭型式:PVA刷頭,可同時清洗晶圓片的正反面

刷位調節:手動控制(可用刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)

轉速:<滿量程的±5%范圍30 ~ 400rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過毛刷

可用化學品:2個化學品[NH4OH]

化學和DI流量:<滿量程的±5%

轉站

選項:超高速掃描

旋轉速度:最高2500/DI漂洗/ N2

控制工藝流程:手動加載,自動順序,濕/干液晶觸摸屏顯示器,程序控制PLC式。



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