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金屬化學氣相沉積MOCVD

簡要描述:用于 5G、光子學和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統
全自動單晶圓簇系統可在 300 毫米基板上生產 5G 射頻、光子學和高級 CMOS 器件。

  • 產品型號:Propel 300mm GaN
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-08-13
  • 訪  問  量: 486

詳細介紹

Propel™ 300mm全自動單晶圓簇系統是經過行業驗證的GaN MOCVD工具,能夠在300mm襯底上生產5G RF、Photonic和先進的CMOS器件。

Propel 300mm 系統采用單晶圓反應器平臺,能夠在 300mm 晶圓上生產的高質量外延膜,具有出色的均勻性、可重復性和產量。Propel 300mm 系統可配置多達 3 個模塊化集群室,并提供自動化的膜包到膜包處理,以實現最大的靈活性和生產率。

單晶圓反應器基于 Veeco  TurboDisc® 設計,包括 IsoFlange™ 和 SymmHeat™ 技術,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從 Veeco 單晶圓反應器 Propel 和 Propel HVM 系統轉移到 Propel 300mm GaN MOCVD 系統,以便快速開發到生產。


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