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有掩膜光刻機

簡要描述:VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機為光掩模(0.8至1.4 m)的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業設計的最大的系統。它是平板顯示器 (FPD) 應用的好的選擇,例如 TFT 陣列、彩色濾光片和 ITO。這些工具還用于先進封裝、半導體、LED 和觸摸屏應用的工業大面積光掩模應用。

  • 產品型號:VPG 800 / VPG 1400
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-08-27
  • 訪  問  量: 405

詳細介紹

VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機為光掩模(0.8至1.4 m)的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業設計的最大的系統。它是平板顯示器 (FPD) 應用的好的選擇,例如 TFT 陣列、彩色濾光片和 ITO。這些工具還用于先進封裝、半導體、LED 和觸摸屏應用的工業大面積光掩模應用。

VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機

大光刻面積VPG+:技術的領航
大光刻面積的VPG  +維持原VPG系列為根基再進化,使其更加出色。VPG于2007年推出;  是擁有專量產型曝光技術光刻系統,可靠和經濟的解決方案,適用于要求嚴謹的掩膜板制造。

速度更快:超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研發的高速光學調制器,在速度下,曝光時間可以達到原始VPG的三倍!強化了曝光動能與數據傳輸路徑。

功能和選項:配備性能
VPG  +可配置各種平臺尺寸,最大可達1400mmx1400mm。  該系統具有355nm波長的紫外激光源,空氣軸承平臺,半自動或全自動入料器,用于基板裝載的溫控環境室。

應用:光罩制造和直接寫入
大光刻面積的VPG  +系統適用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light  emitting diodes, touch panel以及life  science應用。出色的圖像質量和對位功能,也非常適合在大面積執行多層套刻直寫。

VPG+  最大型的設備VPG+  1400專門針對顯示器相關行業應用:是所有VPG+系列中功能具有極其完善的溫控環境室,差分干涉儀和先進的mura校正以及面板間距優化功能。




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