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當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  1 光刻設備  >  UC100-SE紫外臭氧清洗機

紫外臭氧清洗機

簡要描述:這款紫外臭氧清洗機,集成嵌入式控制系統,人性化設計,便捷高效,質量有保障,專業服務,是科研與實驗的理想伙伴。

  • 產品型號:UC100-SE
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-06
  • 訪  問  量: 307

詳細介紹

1.基本參數

品牌與型號:LEBO/雷博,UC100-SE

產地:中國江蘇江陰

額定電壓:AC220V,50Hz

燈管功率:多為300W,也有資料提及為275W(具體以實際產品為準)

燈管壽命:≥8000小時

燈管形狀:U型或G型(不同來源信息可能略有差異)

燈管光譜:185nm+254nm或184nm+254nm(不同來源信息可能略有差異)

清洗面積:≤8寸

外型尺寸:大致為330mm(W)×400~420mm(D)×315mm(H)(不同來源信息可能略有差異)

產品重量:約為15~16kg

2.功能與特性

高效清洗:通過VUV低壓紫外汞燈發射的185nm和254nm波長的紫外光,直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵,使其活化并分解成離子、游離態原子等,同時生成臭氧和活性氧原子,通過氧化反應清除粘附在物體表面上的有機污染物。

集成控制系統:設備采用集成式的嵌入式控制系統,帶有LCD點陣液晶顯示屏和數字化操作界面,用戶操作更加簡單直觀。

高度調節與誤觸保護:基片照射高度可無化調節或采用X型調節裝置,確保高度調節更加平穩。同時,系統自帶誤觸功能,降低操作失誤幾率。

風量調速:進風及抽風風扇采用5調速,可根據需要調節風量,確保清洗效果。

人體工程學設計:設備設計符合人體工程學原理,實驗操作易上手,使用便捷。

3.應用域

UC100-SE紫外臭氧清洗機廣泛應用于多個域,包括但不限于:

LCD、OLED生產:在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜進行光清洗,提高基體表面潤濕性和粘合力。

半導體生產:硅晶片涂保護膜、鋁蒸發膜進行光清洗,提高粘合力,防止針孔、裂縫的發生。

掃描探測顯微鏡:用于清洗原子力顯微鏡探針、掃描探針顯微鏡標準和其他表面上的油漬層和殘留的無機材料。



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