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詳細介紹
1.產品概述：
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。
2.設備用途：
可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
3.用戶評價：
TRP-450高真空鍍膜機其設備質量過關，功能齊全，性能穩定，自動化程度高，抽氣速平穩，電源穩定可靠，氣路流暢密閉，鍍膜質量平整光滑，均勻致密，結合力強，且系統操控智能，便捷，可滿足科研實驗與生產制造的需求，是一款優秀的磁控濺射鍍膜系統。——北京石墨烯技術研究院有限公司 李老師
4.真空室：
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