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當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  1 光刻設備  >  UV Litho-ACA無掩膜光刻機

無掩膜光刻機

簡要描述:ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機,其基于空間光調制技術,實現了數字掩膜光刻,靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源,設備穩定,上手簡單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能,讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設備為科研工作提供了強大的支持,助力科學研究領域的發展和創新。

  • 產品型號:UV Litho-ACA
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 402

詳細介紹

1. 產品概述

ACA無掩膜光刻機系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機,其基于空間光調制技術,實現了數字掩膜光刻,靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源,設備穩定,上手簡單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能,讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設備為科研工作提供了強大的支持,助力科學研究域的發展和創新。

2. 特色參數

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

3. 應用案例

微流道芯片

二維材料電

光學掩膜版

MEMS器件

灰度光刻

4. 公司簡介

托托科技(蘇州)有限公司是一家注于顯微光學加工和顯微光學檢測域的公司,在基于數字微鏡器件的無掩膜光刻技術域中進行了數年的深入研究和技術積累,其研制和生產的無掩膜紫外光刻機一經問世,就受到了諸多客戶的青睞,在科研和工業域都有廣泛的應用。例如,在微納加工域,可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型傳感器等;在光電子域,可以用于制作光柵、衍射光學元件等。
  托托科技致力于設備底層技術的研究和積累,不斷尋求技術的突破,努力為客戶帶來更好的設備和更好的使用體驗,幫助客戶創造更高的價值。



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