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  • RISE-300自然氧化膜去除設備

    自然氧化膜去除設備去除設備 RISE-300批處理式自然氧化膜去除設備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜的批處理式預清洗裝置。可處理200mm,300mm尺寸晶圓。

    更新時間:2024-09-06
    型號:RISE-300
    廠商性質:經銷商
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  • NA-1300系列去膠設備

    去膠設備NA-1300系列 從關鍵的新世代晶圓制程到晶圓封裝,Luminous NA系列可對應廣范圍的各類晶圓尺寸的各類工藝需求。

    更新時間:2024-09-06
    型號:NA-1300系列
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:506
  • IH-860DSICSiC用高溫離子注入設備

    SiC用高溫離子注入設備 IH-860DSIC 搭載了高溫ESC(靜電吸附卡盤)的面向SiC量產用的高能粒子注入裝置。

    更新時間:2024-09-06
    型號:IH-860DSIC
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:594
  • IMX-3500離子注入設備

    研究開發用中電流離子注入設備IMX-3500 中電流離子注入裝置IMX-3500為大能量200keV、對應大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置,適用于大學等機構的研究開發。

    更新時間:2024-09-06
    型號:IMX-3500
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:603
  • SOPHI-400離子注入設備

    高能對應離子注入設備SOPHI-400 可達2400KeV的高能離子注入設備。

    更新時間:2024-09-06
    型號:SOPHI-400
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:546
  • SOPHI-30離子注入設備

    可對應低速高濃度的離子注入設備SOPHI-30 低加速、高濃度對應的離子注入設備。

    更新時間:2024-09-06
    型號:SOPHI-30
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:630
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