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8英寸立式爐

簡要描述:FLOURIS 201系列 8英寸立式爐,高精度溫度場控制技術,可實現 1200℃ 內氧化退火工藝。

  • 產品型號:FLOURIS 201系列
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 536

詳細介紹

1. 產品概述

FLOURIS 201系列 8英寸立式爐,高精度溫度場控制技術,可實現 1200℃ 內氧化退火工藝。

2. 設備用途/原理

FLOURIS 201系列 8英寸立式爐高精度溫度場控制技術,可實現 1200℃ 內氧化退火工藝優良的顆粒控制技術優良的膜厚均勻性控制技術圖形化操作界面和群組管理系統

3. 設備特點

晶圓尺寸 8 英寸適用材料 硅、碳化硅適用工藝 高溫氧化、退火、常壓合金、Polyimide 固化適用域 科研、化合物半導體、集成電路。百科:半導體立式爐?的原理主要涉及到半導體材料的熱處理過程,這一過程在半導體制造中至關重要。立式爐的設計允許對半導體材料進行精確的溫度控制和氣氛管理,從而促進材料的特定化學反應,如外延生長等。

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