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掃描聲學顯微鏡

簡要描述:掃描聲學顯微鏡 概述:為了識別前沿封裝微電子應用中最小和最細微的缺陷,ECHO VS包括標準功能,如用于最佳聲耦合的熱水、用于有效捕獲最有用數據的靈活TAMI、用于提高信噪比的波形平均、ICEBERG用于提高圖像質量,MFCI用于在嚴苛的應用中增強圖像質量。ECHO VS是用于成型倒裝芯片、CSP、MCM、疊片、MUF和其他*進封裝技術的超聲波無損檢測設備。

  • 產品型號:customized
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-06
  • 訪  問  量: 1052

詳細介紹

一、產品概述:

掃描聲學顯微鏡SAM)是一種高分辨率的成像設備,用于分析材料內部結構和缺陷。該儀器利用超聲波探測技術,可以獲得微米級別的分辨率,廣泛應用于材料科學、半導體和生物醫學等領域。

二、設備用途/原理

·設備用途

掃描聲學顯微鏡主要用于檢測和分析材料內部的缺陷、應力和微觀結構。工程師和研究人員可以利用該儀器進行材料的質量控制、故障分析和新材料的研發,以確保材料在實際應用中的可靠性和性能。

·工作原理

掃描聲學顯微鏡通過發射超聲波信號到樣品中,并接收反射回來的信號來工作。儀器內部使用高靈敏度的探測器和信號處理技術,將反射信號轉換為圖像,顯示樣品內部的結構和缺陷。用戶可以調整掃描參數,以獲得不同深度和細節的成像,從而進行深入的材料分析和研究。

三、主要技術指標:

1. 為了識別沿封裝微電子應用中小和細微的缺陷,ECHO VS包括標準功能,如用于佳聲耦合的熱水、用于有效捕獲有用數據的靈活TAMI、用于提高信噪比的波形平均、ICEBERG用于提高圖像質量,MFCI用于在苛刻的應用中增強圖像質量。ECHO VS是用于成型倒裝芯片、CSPMCM、疊片、MUF和其他先進封裝技術的終超聲波無損檢測設備

2. 檢測薄至0.01μm的空氣缺陷,并在空間上解決低至5μm的缺陷

3. 圖像優化,提高復雜模制倒裝芯片(MUF)和具有聚酰亞胺層的封裝的圖像質量


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